⁸⁵Rb F=3躍遷至F’=2，3，4與交叉峰局部放大圖

設備介紹：

AFG:任意函數發生器，是一種能生成任意波形的信號源。我們使用的設備是TEK的AFG31052，利用它生成鋸齒波。

780nm DFB：這是一種基于分布反饋（DFB）結構的窄線寬半導體激光器，其中心波長為780nm，通過調制它的泵浦電流就可以實現掃頻，廣泛應用于銣原子量子計算、原子重力儀及精密測距等領域。

1/2波片：又叫半波片，是一種基于雙折射原理的光學相位延遲片，可以對線偏光的偏振態進行控制，廣泛應用于激光偏振調控、光通信及量子光學領域?。

PBS：偏振分束器，是一種基于雙折射或介質膜干涉原理的光學元件，能夠將入射光按偏振態正交分離為透射的P偏振光與反射的S偏振光，消光比可達1000:1以上，配合1/2波片控制入射光的偏振態，可以調控分出兩束正交光的功率比例。

⁸⁵Rb氣室：裝有⁸⁵Rb的密封玻璃氣室，對氣室加熱至60℃左右，確保氣室內的Rb不凝固在玻璃上。

反射鏡：需要一對反射鏡，才能確保pump光可以和probe光共線反向。

PD：光電探測器，將光功率信號轉換為電壓信號并實時輸出。

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筱曉(上海)光子技術有限公司

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